é›»é主è¦åˆ†ç‚ºä»¥ä¸‹å¹¾ç¨®é¡žåž‹ï¼š
(1) 氣相沉ç©ï¼šè¡¨é¢é™„著力;
(2) 散射電é:表é¢æ›´æ›;
(3) æ°´é:分åçµ(jié)åˆ
ç„¡(wú)論是氣相沉ç©é‚„是分散電é,在真空æ¢ä»¶ä¸‹ï¼Œé€šéŽ(guò)蒸餾或?yà n)R射,將å„種金屬和éžé‡‘屬薄膜沉ç©åœ¨å¡‘料表é¢ï¼Œéƒ½æœ‰å¯èƒ½ä»¥é€™æ¨£çš„æ–¹å¼ç²å¾—éžå¸¸è–„的表é¢é›»é層,åŒæ™‚(shÃ)在高速粘附上具有優(yÅu)異的優(yÅu)å‹¢(shì)。 真空沉ç©æ³•ï¼ŒåŠ 熱金屬在高真空下,熔化,蒸發(fÄ),在樣å“表é¢å†·å»åŽå½¢æˆé‡‘屬薄膜的方法,沉ç©çš„金屬是Alã€é‡‘ç‰ã€‚
這種電é方法的電傳導(dÇŽo)性能有何ä¸åŒï¼Ÿ
普通電é是水電é。 é›»é水是導(dÇŽo)電的。 真空電éç›®å‰å·²ç¶“(jÄ«ng)åœæ¢æ¶‚層,但導(dÇŽo)電表é¢ç²˜åˆå¼·(qiáng)度和è€ç£¨æ€§å¦‚何? 由于電é一般用作表é¢ï¼ˆå¤–表é¢ï¼‰ï¼Œæ¿ºé主è¦æ˜¯è¡¨é¢è™•ç†èˆ‡å…§(nèi)表é¢ï¼ˆEMIé (yù)防,å°éµï¼‰ã€‚ åƒä¸€äº›æŒ‰éˆ•ï¼‰æ°´é膜厚度是有點(diÇŽn)厚。 在0.01-0.02 M時(shÃ),真空散射電é的厚度約為0.005 MM,電éçš„è€ç£¨æ€§å’Œé™„著力性較好。
真空散射電é
Argon(Ar)離å主è¦ç”¨äºŽèˆ‡ç›®æ¨™(biÄo)表é¢ç¢°æ’žï¼Œç›®æ¨™(biÄo)æ料的原å沉ç©åœ¨åŸºæ¿è¡¨é¢å½¢æˆè–„膜。 涂層膜的性質(zhì)ã€å‡å‹»æ€§å„ª(yÅu)于沉ç©è†œï¼Œä½†æ¶‚層速率比沉ç©æ…¢å¾—多。 新的散射è£ç½®ï¼Œä½¿ç”¨å¼·(qiáng)大的ç£éµï¼Œä»¥èžºæ—‹å½¢ç‹€ç§»å‹•(dòng)é›»åï¼Œä»¥åŠ é€Ÿç›®æ¨™(biÄo)周åœæ°£é«”çš„é›»é›¢ï¼Œå¢žåŠ ç›®æ¨™(biÄo)離å和氧化離åä¹‹é–“çš„ç¢°æ’žæ¦‚çŽ‡ï¼Œå¢žåŠ æ•£å°„é›»é速率。 一般來(lái)說(shuÅ),金屬電é薄膜使用直æµæ•£å°„,但éžå°Ž(dÇŽo)電陶瓷ææ–™ä½¿ç”¨å°„é »äº¤æµæ•£å°„é›»é。 基本原ç†æ˜¯åˆ©ç”¨çœŸç©ºä¸çš„發(fÄ)光放電將離å(Ar)碰撞到目標(biÄo)æ料表é¢ï¼Œè€Œç‰é›¢åé«”ä¸çš„陽(yáng)離ååŠ é€Ÿåˆ°æ•£å°„ææ–™çš„è² (fù)極表é¢ã€‚ 目標(biÄo)æ料的æ料沉ç©åœ¨åŸºæ¿ä¸Šä»¥å½¢æˆè–„膜。
通常,利用濺ééŽ(guò)程å¯ä»¥é€²(jìn)行薄膜覆蓋的幾個(gè)特å¾ã€‚
(1)金屬ã€åˆé‡‘或絕緣體都å¯ä»¥åˆ¶æˆè–„膜æ料。
(2) 在é‡æ–°é©ç•¶(dÄng)?shù)è„‘O(shè)ç½®æ¢ä»¶ä¸‹ï¼Œå¤šå¾©(fù)雜目標(biÄo)ææ–™å¯ä»¥ç”±ç›¸åŒé…置的薄膜制æˆã€‚
(3)在放電大氣ä¸åŠ 入氧氣或其他活性氣體,å¯ä»¥åˆ¶æˆç›®æ¨™(biÄo)物質(zhì)和氣體分åçš„æ··åˆç‰©æˆ–化åˆç‰©ã€‚
4目標(biÄo)輸入電æµå’Œæ¿ºå°„時(shÃ)é–“å¯ä»¥æŽ§åˆ¶ï¼Œå¾ˆå®¹æ˜“ç²å¾—高精度薄膜厚度。
(5)與其他工è—相比,有利于大é¢ç©å‡å‹»è–„膜的生產(chÇŽn)。
(6)濺射顆粒ä¸å—é‡åŠ›å½±éŸ¿ï¼Œç›®æ¨™(biÄo)ä½ç½®å’ŒåŸºæ¿å¯ä»¥è‡ªç”±æŽ’列。
(7)基æ和薄膜的粘附強(qiáng)度一般是沉ç©è†œçš„10å€ä»¥ä¸Šï¼Œç”±äºŽæ¿ºå°„顆粒具有高能é‡ï¼Œè–„膜形æˆè¡¨é¢ç²å¾—硬致密膜以繼續(xù)表é¢æ“´(kuò)散,高能基æ¿æœ‰å¯èƒ½åœ¨ä½Žæº«ä¸‹ç²å¾—晶體膜。
(8)薄膜形æˆå…·æœ‰è¼ƒé«˜çš„åˆå§‹æˆæ ¸å¯†åº¦ï¼Œå¯ç”¢(chÇŽn)生10ç´ç±³ä»¥ä¸‹çš„超薄連續(xù)膜。
(9) 目標(biÄo)æ料壽命長(zhÇŽng),å¯é•·(zhÇŽng)時(shÃ)間自動(dòng)化。
(10) 目標(biÄo)ææ–™å¯ä»¥åˆ¶æˆå„種形狀。 更好的控制和最有效的生產(chÇŽn)æ ¹æ“š(jù)æ©Ÿ(jÄ«)器支架的特殊è¨(shè)計(jì)。 æ°´é層厚度比真空電é厚,è€ç£¨æ€§å„ª(yÅu)于實(shÃ)層。
總之,差異如下:
1. 真空電é技術(shù)ç’°(huán)ä¿ã€‚ é›»éå˜åœ¨éš±æ‚£ã€‚
2. 真空電é技術(shù)é¡žä¼¼äºŽæ¼†å™¨åˆ¶é€ å·¥è—。 æ°´é層是ä¸åŒçš„。
3. 真空電é的附著力高于水é。 我把uv。
é›»é æ°´é 濺é è’¸é